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等离子组件

等离子组件

等离子体组件

半导体技术改变了我们对世界的看法–但等离子体加工使每个人生产产品成为可能。高密度微波辅助等离子体源在蚀刻和沉积系统中表现出卓越的性能，这些系统需要高蚀刻率，而不会对材料造成电荷或损坏

作为等离子体组件制造商，我们的领先地位有助于您开发和调整您的系统–同时确保快速进入市场和低COO。作为我们 “交钥匙 “产品范围的一部分，我们为各种不同的生产工具和应用提供等离子组件：

  • 氧化物和氮化物层的高密度沉积
  • 大面积沉积和蚀刻
  • SU-8距离
  • 高度选择性地去除有机物质
  • 用于清洗对氧气敏感的材料的非氧化性化学方法（H2工艺）
  • 敏感表面（如传感器）和3D结构的无损清洗
  • 各向同性室清洁
  • LIGA工艺（光刻、电镀和成型）