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Plasma-Komponenten

Plasma-Komponenten
  • Atmosphärische-Plasma-Quelle

    Artikelnr.: MA075KA-019BF

    Prozess
    Gas- /Materialtransformation
    Auskoppelgröße
    Andere
    Material Dielektrikum
    Quarz
    Netzspannung Nominal [V]
    -
    Leistung [W]
    75000
    Frequenz [MHz]
    915
    Gasdusche
    -
    Hohlleitergröße
    WR975 / R9
    Reaktor Ausgangsgröße
    outer ø131 mm. inner ø80 mm

    Atmosphärische-Plasma-Quelle

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  • Atmosphärische-Plasma-Quelle

    Artikelnr.: MA6000A-013BB

    Prozess
    Gas- /Materialtransformation
    Auskoppelgröße
    Andere
    Material Dielektrikum
    Quarz
    Leistung [W]
    6000
    Frequenz [MHz]
    2450
    Hohlleitergröße
    WR340 / R26
    Reaktor Ausgangsgröße
    ø30 mm x 1,5 mm x 200 mm

    Atmosphärische-Plasma-Quelle

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  • Down-Streem-Plasma-Quelle

    Artikelnr.: MA010KD-013BF

    Prozess
    Gas- /Materialtransformation
    Auskoppelgröße
    Andere
    Material Dielektrikum
    -
    Leistung [W]
    10000
    Frequenz [MHz]
    915
    Hohlleitergröße
    WR975 / R9
    Reaktor Ausgangsgröße
    -

    Down-Streem-Plasma-Quelle

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  • Down-Streem-Plasma-Quelle

    Artikelnr.: MA100KD-013BF

    Prozess
    Gas- /Materialtransformation
    Auskoppelgröße
    Andere
    Netzspannung Nominal [V]
    -
    Leistung [W]
    100000
    Frequenz [MHz]
    915
    Hohlleitergröße
    WR975 / R9
    Reaktor Ausgangsgröße
    -

    Down-Streem-Plasma-Quelle

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  • Flächenplasmaquelle

    Artikelnr.: MA4000Y-013BC

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    Plasmafläche 320 mm x 320 mm
    Material Dielektrikum
    Keramik
    Netzspannung Nominal [V]
    -
    Leistung [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450
    Gasdusche
    Einfach
    Hohlleitergröße
    Coaxial
    Reaktor Ausgangsgröße
    -

    Flächenplasmaquelle

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  • Flächenplasmaquelle

    Artikelnr.: MA4000Y-073BC

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    Plasmafläche 338 mm x 408 mm
    Material Dielektrikum
    Keramik
    Netzspannung Nominal [V]
    -
    Leistung [W]
    2x 2000
    Frequenz [MHz]
    2450
    Gasdusche
    Einfach
    Hohlleitergröße
    Coaxial
    Reaktor Ausgangsgröße
    -

    Flächenplasmaquelle

    Mehr Details
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  • Flächenplasmaquelle

    Artikelnr.: MA4000Y-083BC

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    Plasmafläche 320 mm x 320 mm
    Material Dielektrikum
    Keramik
    Leistung [W]
    3000
    Frequenz [MHz]
    2450
    Gasdusche
    Einfach

    Flächenplasmaquelle

    Mehr Details
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  • Flächenplasmaquelle

    Artikelnr.: MA4000Y-093BC

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    Plasmafläche 320 mm x 320 mm
    Material Dielektrikum
    Keramik
    Leistung [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450
    Gasdusche
    Einfach

    Flächenplasmaquelle

    Mehr Details
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PLASMA-KOMPONENTEN

Die Halbleitertechnologie hat unser Weltbild verändert – aber die Plasmabearbeitung ermöglichte es, Produkte für alle zu produzieren. Hochdichte mikrowellen-unterstützte Plasmaquellen performen überlegen in Ätz- und Beschichtungsanlagen, die hohe Etching-Raten ohne elektrische Aufladung oder Beschädigung des Materials erfordern.

Unsere Führungsrolle als Hersteller von Plasmakomponenten hilft Ihnen, Ihre Anlagen zu entwickeln und anzupassen – bei gleichzeitig schnellem Markteintritt und niedrigem CoO. Im Rahmen unserer “schlüsselfertigen” Produktpalette bieten wir Plasmakomponenten für eine Vielzahl von unterschiedlichen Fertigungswerkzeugen und Anwendungen an:

  • Hochdichte Abscheidung von Oxid- und Nitridschichten
  • Großflächiges Abscheiden und Ätzen
  • SU-8 Entfernung
  • Hochselektive Entfernung von organischen Materialien
  • Nicht-oxidierende Chemie zur Reinigung von sauerstoffempfindlichen Materialien (H2-Prozess)
  • Beschädigungsfreie Reinigung von empfindlichen Oberflächen (z.B. Sensoren) und 3D-Strukturen
  • Isotrope Kammerreinigung
  • LIGA-Verfahren (Lithographie, Galvanik und Formgebung)