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Plasma components

Plasma components
  • Atmospheric-Plasma-Source

    Artikelnr.: MA075KA-019BF

    방법
    Gas- /Material Transformation
    출력 연결 유형
    others
    유전체 재료
    Quartz
    출력 전력 CW [W]
    75000
    Frequenz [MHz]
    915
    도파관 구성 요소
    WR975 / R9
    리액터 출구
    outer ø131 mm. inner ø80 mm
  • Atmospheric-Plasma-Source

    Artikelnr.: MA6000A-013BB

    방법
    Gas- /Material Transformation
    출력 연결 유형
    others
    유전체 재료
    Quartz
    출력 전력 CW [W]
    6000
    Frequenz [MHz]
    2450
    도파관 구성 요소
    WR340 / R26
    리액터 출구
    ø30 mm x 1,5 mm x 200 mm
  • Down-Streem-Plasma-Source

    Artikelnr.: MA010KD-013BF

    방법
    Gas- /Material Transformation
    출력 연결 유형
    others
    유전체 재료
    -
    출력 전력 CW [W]
    10000
    Frequenz [MHz]
    915
    도파관 구성 요소
    WR975 / R9
    리액터 출구
    -
  • Down-Streem-Plasma-Source

    Artikelnr.: MA100KD-013BF

    방법
    Gas- /Material Transformation
    출력 연결 유형
    others
    유전체 재료
    -
    출력 전력 CW [W]
    100000
    Frequenz [MHz]
    915
    도파관 구성 요소
    WR975 / R9
    리액터 출구
    -

    Down-Streem-Plasma-Source

  • Plasma array (large area)

    Artikelnr.: MA4000Y-013BC

    방법
    Etching & Deposition
    출력 연결 유형
    Plasma area 320 mm x 320 mm
    유전체 재료
    Ceramics
    출력 전력 CW [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450
    가스 매니폴드
    Single

    Flächenplasmaquelle

  • Plasma array (large area)

    Artikelnr.: MA4000Y-083BC

    방법
    Etching & Deposition
    출력 연결 유형
    Plasma area 320 mm x 320 mm
    유전체 재료
    Ceramics
    출력 전력 CW [W]
    3000
    Frequenz [MHz]
    2450
    가스 매니폴드
    Single

    Flächenplasmaquelle

  • Plasma array (large area)

    Artikelnr.: MA4000Y-093BC

    방법
    Etching & Deposition
    출력 연결 유형
    Plasma area 320 mm x 320 mm
    유전체 재료
    Ceramics
    출력 전력 CW [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450
    가스 매니폴드
    Single

    Flächenplasmaquelle

  • Plasma array (large area)

    Artikelnr.: MA4000Y-103BC

    방법
    Etching & Deposition
    출력 연결 유형
    Plasma area 338 mm x 408 mm
    유전체 재료
    Ceramics
    출력 전력 CW [W]
    2x 2000
    Frequenz [MHz]
    2450
    가스 매니폴드
    Single

    Flächenplasmaquelle

PLASMA COMPONENTS

Semiconductor technology has changed our view of the world – but plasma processing has made it possible to produce products for everyone. High-density microwave-assisted plasma sources perform superiorly in etching and deposition systems that require high etching rates without electrical charging or damage to the material.

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Our leading role as a manufacturer of plasma components helps you to develop and adapt your systems – while ensuring fast market entry and low CoO. As part of our “”turnkey”” product range, we offer plasma components for a variety of different production tools and applications:

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  • High density deposition of oxide and nitride layers
  • SU-8 distance

  • Highly selective removal of organic materials
  • Non-oxidizing chemistry for cleaning of oxygen sensitive materials (H2 process)
  • Damage-free cleaning of sensitive surfaces (e.g. sensors) and 3D structures
  • Isotropic chamber cleaning
  • LIGA process (lithography, electroplating and shaping)