Muegge Produkte
等离子组件
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等离子阵列(大面积)
Artikelnr.: MA4000Y-013BC
Process蚀刻和沉积(涂层)Output Connection Type等离子区 320 mm x 320 mmDielectric material陶瓷Mains voltage nominal [V]–Output Power CW [W]2000Frequency [MHz]2450Gas manifold单Waveguide size同轴Reactor outlet-Flächenplasmaquelle
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等离子阵列(大面积)
Artikelnr.: MA4000Y-083BC
Process蚀刻和沉积(涂层)Output Connection Type等离子区 320 mm x 320 mmDielectric material陶瓷Output Power CW [W]3000Frequency [MHz]2450Gas manifold单Flächenplasmaquelle
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等离子阵列(大面积)
Artikelnr.: MA4000Y-093BC
Process蚀刻和沉积(涂层)Output Connection Type等离子区 320 mm x 320 mmDielectric material陶瓷Output Power CW [W]2000Frequency [MHz]2450Gas manifold单Flächenplasmaquelle
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等离子阵列(大面积)
Artikelnr.: MA4000Y-103BC
Process蚀刻和沉积(涂层)Output Connection Type等离子区 338 mm x 408 mmDielectric material陶瓷Mains voltage nominal [V]–Output Power CW [W]2x 2000Frequency [MHz]2450Gas manifold单Flächenplasmaquelle
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等离子阵列(大面积)
Artikelnr.: MA4000Y-123BC
Process蚀刻和沉积(涂层)Output Connection Type等离子区 320 mm x 320 mmDielectric material陶瓷Mains voltage nominal [V]–Output Power CW [W]2000Frequency [MHz]2450Gas manifold单Waveguide size同轴Reactor outlet-Flächenplasmaquelle
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等离子阵列(大面积)
Artikelnr.: MA4000Y-153BC
Process蚀刻和沉积(涂层)Output Connection Type等离子区 320 mm x 320 mmDielectric material陶瓷Output Power CW [W]2000Frequency [MHz]2450Gas manifold双Flächenplasmaquelle
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等离子阵列(大面积)
Artikelnr.: MA6000Y-013BC
Process蚀刻和沉积(涂层)Output Connection Type等离子区 700 mm x 226 mmDielectric material陶瓷Output Power CW [W]2x 3000Frequency [MHz]2450Gas manifold双Flächenplasmaquelle
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等离子阵列(大面积)
Artikelnr.: MA6000Y-023BC
Process蚀刻和沉积(涂层)Output Connection Type等离子区 797,5 mm x 150 mmDielectric material陶瓷Output Power CW [W]2x 3000Frequency [MHz]2450Gas manifold双Flächenplasmaquelle
等离子体组件
半导体技术改变了我们对世界的看法–但等离子体加工使每个人生产产品成为可能。高密度微波辅助等离子体源在蚀刻和沉积系统中表现出卓越的性能,这些系统需要高蚀刻率,而不会对材料造成电荷或损坏
作为等离子体组件制造商,我们的领先地位有助于您开发和调整您的系统–同时确保快速进入市场和低COO。作为我们 “交钥匙 “产品范围的一部分,我们为各种不同的生产工具和应用提供等离子组件:
- 氧化物和氮化物层的高密度沉积
- 大面积沉积和蚀刻
- SU-8距离
- 高度选择性地去除有机物质
- 用于清洗对氧气敏感的材料的非氧化性化学方法(H2工艺)
- 敏感表面(如传感器)和3D结构的无损清洗
- 各向同性室清洁
- LIGA工艺(光刻、电镀和成型)