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Radical plasma source (Remote Plasma Source)
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Radical plasma source (Remote Plasma Source)
Artikelnr.: MA1250C-003BC
방법Etching & Deposition출력 연결 유형유전체 재료Ceramics정격 주 전압 [V]230 / 208출력 전력 CW [W]1250Frequenz [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Radical plasma source (Remote Plasma Source)
Artikelnr.: MA2000C-083BB
방법Etching & Deposition출력 연결 유형유전체 재료Ceramics정격 주 전압 [V]230 / 208출력 전력 CW [W]2000Frequenz [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Radical plasma source (Remote Plasma Source)
Artikelnr.: MA2000C-123BB
방법Etching & Deposition출력 연결 유형유전체 재료Ceramics정격 주 전압 [V]230 / 208출력 전력 CW [W]2000Frequenz [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Radical plasma source (Remote Plasma Source)
Artikelnr.: MA2000C-133BB
방법Etching & Deposition출력 연결 유형유전체 재료Ceramics정격 주 전압 [V]230 / 208출력 전력 CW [W]2000Frequenz [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Radical plasma source (Remote Plasma Source)
Artikelnr.: MA2000C-143BB
방법Etching & Deposition출력 연결 유형유전체 재료Sapphire정격 주 전압 [V]230 / 208출력 전력 CW [W]2000Frequenz [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Radical plasma source (Remote Plasma Source)
Artikelnr.: MA2000C-223BB
방법Etching & Deposition출력 연결 유형유전체 재료Ceramics정격 주 전압 [V]230 / 208출력 전력 CW [W]2000Frequenz [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Radical plasma source (Remote Plasma Source)
Artikelnr.: MA2000C-233BB
방법Etching & Deposition출력 연결 유형유전체 재료Ceramics정격 주 전압 [V]230 / 208출력 전력 CW [W]2000Frequenz [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Radical plasma source (Remote Plasma Source)
Artikelnr.: MA2000C-703BB
방법Etching & Deposition출력 연결 유형유전체 재료Ceramics정격 주 전압 [V]230 / 208출력 전력 CW [W]2000Frequenz [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)