Muegge Produits
KF 40
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-083BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieKF 40Matériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-123BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieKF 40Matériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-223BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieKF 40Matériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-703BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieKF 40Matériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-743BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieKF 40Matériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-783BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieKF 40Matériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-823BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieKF 40Matériau DiélectriqueSaphirTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-863BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieKF 40Matériau DiélectriqueSaphirTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)