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ISO-K63

ISO-K63
  • Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

    Artikelnr.: MA1250C-003BC

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    ISO-K63
    Material Dielektrikum
    Keramik
    Netzspannung Nominal [V]
    230 / 208
    Leistung [W]
    1250
    Frequenz [MHz]
    2450
    Gasdusche
    -
    Reaktor Ausgangsgröße
    -

    Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

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  • Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

    Artikelnr.: MA2000C-133BB

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    ISO-K63
    Material Dielektrikum
    Keramik
    Netzspannung Nominal [V]
    230 / 208
    Leistung [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450

    Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

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  • Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

    Artikelnr.: MA2000C-143BB

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    ISO-K63
    Material Dielektrikum
    Saphir
    Netzspannung Nominal [V]
    230 / 208
    Leistung [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450

    Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

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  • Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

    Artikelnr.: MA2000C-233BB

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    ISO-K63
    Material Dielektrikum
    Keramik
    Netzspannung Nominal [V]
    230 / 208
    Leistung [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450

    Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

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  • Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

    Artikelnr.: MA2000C-713BB

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    ISO-K63
    Material Dielektrikum
    Keramik
    Netzspannung Nominal [V]
    230 / 208
    Leistung [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450

    Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

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  • Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

    Artikelnr.: MA2000C-753BB

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    ISO-K63
    Material Dielektrikum
    Keramik
    Netzspannung Nominal [V]
    230 / 208
    Leistung [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450

    Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

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  • Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

    Artikelnr.: MA2000C-793BB

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    ISO-K63
    Material Dielektrikum
    Keramik
    Netzspannung Nominal [V]
    230 / 208
    Leistung [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450

    Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

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  • Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

    Artikelnr.: MA2000C-833BB

    Prozess
    Ätzen & Abscheiden (Beschichten)
    Auskoppelgröße
    ISO-K63
    Material Dielektrikum
    Saphir
    Netzspannung Nominal [V]
    230 / 208
    Leistung [W]
    3000
    Frequenz [MHz]
    2450

    Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)

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